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1 wafer flatness
площинна напівпровідникової пластиниEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > wafer flatness
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2 flatness
площинна
См. также в других словарях:
wafer flatness — plokštelės plokštumas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. wafer flatness vok. Waferebenheit, f rus. плоскостность пластины, f pranc. planéité de la tranche, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Wafer (electronics) — Polished 12 and 6 silicon wafers. The flat cut into the right wafer indicates its doping and crystallographic orientation (see below) … Wikipedia
Wafer — Als Wafer [ˈweɪfə(r)] (engl. „Waffel“ oder „Oblate“) werden in der Mikroelektronik, Photovoltaik und Mikrosystemtechnik kreisrunde oder quadratische, ca. 1 mm dicke Scheiben bezeichnet. Sie werden aus ein oder polykristallinen (Halbleiter… … Deutsch Wikipedia
Waferebenheit — plokštelės plokštumas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. wafer flatness vok. Waferebenheit, f rus. плоскостность пластины, f pranc. planéité de la tranche, f … Radioelektronikos terminų žodynas
planéité de la tranche — plokštelės plokštumas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. wafer flatness vok. Waferebenheit, f rus. плоскостность пластины, f pranc. planéité de la tranche, f … Radioelektronikos terminų žodynas
plokštelės plokštumas — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. wafer flatness vok. Waferebenheit, f rus. плоскостность пластины, f pranc. planéité de la tranche, f … Radioelektronikos terminų žodynas
плоскостность пластины — plokštelės plokštumas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. wafer flatness vok. Waferebenheit, f rus. плоскостность пластины, f pranc. planéité de la tranche, f … Radioelektronikos terminų žodynas
EUV-Lithografie — (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV). Dies soll es… … Deutsch Wikipedia
Extreme ultraviolet lithography — (also known as EUV or EUVL ) is a next generation lithography technology using the 13.5 nm EUV wavelength. EUVL opticsEUVL is a significant departure from the deep ultraviolet lithography used today. All matter absorbs EUV radiation. Hence, EUV… … Wikipedia
Immersion lithography — is a photolithography resolution enhancement technique that replaces the usual air gap between the final lens and the wafer surface with a liquid medium that has a refractive index greater than one. The resolution is increased by a factor equal… … Wikipedia
Czochralski process — The Czochralski process The Czochralski process is a method of crystal growth used to obtain single crystals of semiconductors (e.g. silicon, germanium and gallium arsenide), metals (e.g. palladium, platinum, silver, gold), salts, and synthetic … Wikipedia
